Stabilność | Doskonała stabilność w trudnych warunkach |
---|---|
Selektywność | Wysoka selektywność uwodornienia C3 |
Materiał nośnika | Tlenek glinu (Al2O3) |
Aktywny metal | Pallad (Pd) |
Rozmiar porów | Jednolity rozkład wielkości porów |
Wielokrotnego użytku | - Tak, proszę. |
---|---|
Objętość porów | 00,85-0,95 Cm3/g |
Materiał nośnika | Glinka |
Ciśnienie | 3,5 MPa |
PRZEMYSŁ | Przemysł chemiczny |
Typ katalizatora | Wspierany katalizator metalowy |
---|---|
Rozmiar porów | Jednolity rozkład wielkości porów |
Selektywność | Wysoka selektywność uwodornienia C3 |
Stabilność | Doskonała stabilność w trudnych warunkach |
Powierzchnia | Duża powierzchnia zapewniająca skuteczną aktywność katalityczną |
Typ katalizatora | Wspierany katalizator metalowy |
---|---|
Rozmiar cząsteczki | Wąski rozkład wielkości cząstek |
Kształt | Sferyczna |
Działalność | Wysoka aktywność w uwodornieniu C3 |
Aktywny metal | Pallad (Pd) |
Materiał nośnika | Glinka |
---|---|
Ciśnienie | 3,5 MPa |
PRZEMYSŁ | Przemysł chemiczny |
Powierzchnia | 150-200 m2/g |
Kształt | Sferyczna |
Kształt | Sferyczna |
---|---|
Powierzchnia | 150-200 m2/g |
Objętość porów | 00,85-0,95 Cm3/g |
Selektywność | 80% |
PRZEMYSŁ | Przemysł chemiczny |
Wielokrotnego użytku | - Tak, proszę. |
---|---|
Materiał nośnika | Glinka |
Temperatura pracy | 60-100°C |
Selektywność | 80% |
Powierzchnia | 150-200 m2/g |
Kształt | Sferyczna |
---|---|
Stabilność | Doskonała stabilność w trudnych warunkach |
Powierzchnia | Duża powierzchnia zapewniająca skuteczną aktywność katalityczną |
Rozmiar porów | Jednolity rozkład wielkości porów |
Selektywność | Wysoka selektywność uwodornienia C3 |
Aktywny metal | Paladium |
---|---|
Rozmiar cząsteczki | 3-4,5 mm |
PRZEMYSŁ | Przemysł chemiczny |
Ciśnienie | 3,5 MPa |
Materiał nośnika | Glinka |
Gęstość nasypowa | 0,65-0,75 g/cm3 |
---|---|
Rozmiar cząsteczki | 1,5-3,0 mm |
Temperatura pracy | 150-250°C |
Ciśnienie operacyjne | 1-10 MPa |
Składnik aktywny | Pd, Pt, Ni lub Co |